Новый российский литограф позволит выпускать чипы по технологии 350 нм
Фото: ЗНТЦ
В Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ) объявили о создании и успешном прохождении этапа госкомиссии нового отечественного фотолитографа. Установка позволит выпускать микросхемы по технологическому процессу 350-нм, что является достаточно серьезным шагом в развитии российской микроэлектроники.
Литограф имеет рабочее поле с площадью 22 х 22 мм и способен обрабатывать пластины, имеющие диаметр в 200 мм. Кроме того, впервые в такого рода отечественных разработках, решили не применять ртутную лампу — ее заменили на более долговечный и, к тому же, более мощный твердотельный лазер.
В настоящее время в ЗНТЦ заняты адаптацией техпроцессов под требования потребителей, а также проводят переговоры о будущих поставках установок для новых полупроводниковых производств и модернизации уже действующих. Одним из крупных заказчиков называют «Микрон», что вполне предсказуемо. К слову, ЗНТЦ обещает создать 130-нм литограф уже в 2026 году.
